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              膜技術和氧化結合工藝常用的分類和設計優(yōu)勢說明

              更新時間:2022-09-02    點擊次數(shù):945
                 膜技術和氧化結合工藝的基本原理
                厚膜技術主要是指用絲網印刷的方法將導體漿料、電阻漿料或介質漿料等材料轉移到陶瓷基板上,這些材料經過高溫燒成后,會在陶瓷電路板上形成粘附牢固的膜。重復多次后,就會形成多層互連結構的包含電阻或電容的電路。
               
                膜技術和氧化結合工藝常用的可分為三種:
                1、厚膜印刷工藝:采用高網孔率絲網。此工藝的線徑會更細、目數(shù)更高、絲網的開口率更高、細線不易斷線。
               
                2、厚膜光刻工藝:通過光刻或光致成圖技術。先燒結成膜,再光刻成圖工藝的材料通常有有機銀漿、薄印銀及無玻璃導體等;先光刻后成膜所采用的漿料因其具有光敏性,可以在經過曝光、顯影后直接成圖,省去了光刻膠步驟,且能夠提高導體線條的精度。
               
                3、厚膜直接描繪技術:此技術主要是在CAD上進行設計,然后直接在基板上描出厚膜圖形,無需制版、制網,且該工藝下布線的線寬和間距可以精確控制,適合小批量和多品種的生產。
               
                膜技術和氧化結合工藝的設計優(yōu)勢:
                1、設備采用全自動操控模式,設備可針對廢水水量自動調節(jié)系統(tǒng)運行模式。
               
                2、采用全自動化運行模式,無需專人控制。
               
                3、設備采用AO污水處理工藝,故障少運行流程簡單。
               
                4、防腐工藝采用里三外四層環(huán)氧瀝青防腐工藝,防腐壽命15年以上。
               
                5、對與易損耗配件,設備均采用一用一備配套模式,保證使用年限。
               
                6、內置高密度填料,設備材質采用碳鋼。

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